擴(kuò)散、鍍膜、印刷、燒結(jié)各種典型缺陷成因
摘要
針對(duì)晶體硅太陽(yáng)電池缺陷的檢測(cè)問題,利用多種測(cè)試設(shè)備(EL、PL、Corescan等),
在電池制作的主要工序段(擴(kuò)散、鍍膜、印刷、燒結(jié))對(duì)硅片和電池片進(jìn)行檢測(cè),歸納
和總結(jié)了電池的各種典型缺陷的成因,利用這些檢測(cè)手段和分析結(jié)果,能夠及時(shí)有效地
反饋生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的缺陷類型,有利于生產(chǎn)工藝的改進(jìn)和質(zhì)量的控制。
在大規(guī)模應(yīng)用和工業(yè)生產(chǎn)中,晶硅太陽(yáng)能電池占主導(dǎo)地位,其在制造過程中通常采用制絨、擴(kuò)散、刻蝕、PECVD、印刷、燒結(jié)幾道工序,由于一些機(jī)械應(yīng)力、熱應(yīng)力及人為等不穩(wěn)定因素的存在,會(huì)不可避免的造成硅片的一些隱性缺陷如污染、裂紋、擴(kuò)散不均勻等,這類缺陷的存在大大降低了電池片的光電轉(zhuǎn)換效率,導(dǎo)致公司增加經(jīng)濟(jì)損失。利用多種測(cè)試設(shè)備如EL、PL、corescan等檢測(cè)硅片、半成品電池及成品電池存在的各種隱形缺陷,改善工藝參數(shù),降低產(chǎn)品的不合格率,為公司提高成品率,大大的降低成本。
2.1光致發(fā)光(PL)
PL是檢測(cè)原材料的有效方法,如Fig.2-1所示,以大于半導(dǎo)體硅片禁帶寬度的光作為激發(fā)手段,激發(fā)硅中的載流子,當(dāng)撤去光源后,處于激發(fā)態(tài)的電子屬于亞穩(wěn)態(tài),在短時(shí)間內(nèi)會(huì)回到基態(tài),這一過程中會(huì)釋放波長(zhǎng)為1100nm的光子,光子被靈敏的CCD相機(jī)捕獲,得到硅片的輻射復(fù)合圖像[1]。
Fig.2-1光致發(fā)光
2.2電致發(fā)光(EL)
EL與PL工作原理相似,但不同之處在于激發(fā)非平衡載流子的方式不同,即在電池的正向偏壓下,注入非平衡載流子(Fig.2-2)。
Fig.2-2電致發(fā)光
2.3微波光電導(dǎo)衰減法(u-PCD)
u-PCD主要包括904nm的激光注入產(chǎn)生電子-空穴對(duì)(Fig.2-3a),導(dǎo)致樣品的電導(dǎo)率增加,當(dāng)撤去外界光注入時(shí)(Fig.2-3b),電導(dǎo)率隨時(shí)間指數(shù)衰減,這一趨勢(shì)間接反應(yīng)少數(shù)載流子的衰減趨勢(shì),從而通過微波探測(cè)電導(dǎo)率隨時(shí)間變化的趨勢(shì)得到載流子的壽命。
Fig.2-3a激光激發(fā)
Fig.2-3b微波探測(cè)
2.4方塊電阻掃描(SHR)
SHR測(cè)試探頭在中心有一個(gè)激光源(Fig.2-4),緊跟著有兩個(gè)同心圓環(huán)形電容電極,激光的頻率可以調(diào)整。激光注入產(chǎn)生電子空穴,內(nèi)建電場(chǎng)將電子空穴分離,將產(chǎn)生表面勢(shì),表面勢(shì)反映了SHR信號(hào)并且向橫向擴(kuò)散,內(nèi)外探頭獲取表面勢(shì)。硅片的方阻通過在兩個(gè)電容電極測(cè)量電勢(shì)的比率計(jì)算。
Fig.2-4SHR
2.5串聯(lián)電阻掃描(Corescan)
Corescan的掃描頭包含一個(gè)光源和金屬探針(Fig.2-5),掃描過程中,將電池片短路連接,掃描頭以固定的掃描間距、速度移動(dòng),光源照射在電池片上產(chǎn)生光生電流,同時(shí)金屬探針在電池片表面劃動(dòng),測(cè)量光照位置的電壓值,電壓值即表征了電池片正面的串聯(lián)電阻的大小。
Fig.2-5Corescan
3.1原材料缺陷
原材料的優(yōu)劣影響電池片的光電轉(zhuǎn)換效率,有效的檢測(cè)原材料的優(yōu)劣,降低原材料的不合格率,能夠直接減少經(jīng)濟(jì)損失。Fig.3-1所示為“黑芯片”的PL圖片,在光照條件下,黑色區(qū)域存在大量的缺陷,它們起到復(fù)合中心作用,使得載流子在此處復(fù)合時(shí)發(fā)出較弱的光,而溫場(chǎng)不均勻造成的位錯(cuò)或雜質(zhì)氧沉淀導(dǎo)致黑芯片的產(chǎn)生,其電池片的電性能一般顯示為Irev、Rs略高、Rsh較正常,Voc稍低,只是Isc明顯偏小。
Fig.3-1黑芯片
Fig.3-2a為“四角黑”電池片的EL圖片,腐蝕掉正背面電極、氮化硅、PN結(jié)后測(cè)試其少子壽命,如Fig.3-2c所示,從圖中可看出,電池片黑角區(qū)域的壽命相對(duì)正常區(qū)域嚴(yán)重偏低,說明此處存在大量的缺陷,可能原因是硅棒在拉制過程中,外層有污染或有晶體缺陷產(chǎn)生,而導(dǎo)致硅材料的性能下降。一般電池片的電性能顯示為Voc稍低,Isc明顯偏小,其余性能參數(shù)較正常。
Fig.3-2四角黑
從附表1的IV數(shù)據(jù)可以看出,整體暗電池片的Voc比正常片低了12mv,通過Fig.3-3的EL圖像(同一亮度)可以明顯看出兩片電池片的差異。腐蝕兩片電池片的氮化硅薄膜、正背面電極、電場(chǎng)及PN結(jié)后測(cè)得整體暗的電池片平均壽命為8.76us,而正常片的平均壽命為11.45us(Fig.3-3c、d),原材料中含有過多的雜質(zhì)導(dǎo)致復(fù)合增加是造成Voc偏低的主要原因。
Fig.3-3整體暗
3.2工藝誘生缺陷--滑移位錯(cuò)
當(dāng)溫度在大約900℃以上時(shí),硅晶體的屈服極限降低,晶體中位錯(cuò)有可能發(fā)生運(yùn)動(dòng)而引起塑性形變。擴(kuò)散、熱氧化等過程都是在900-1200℃范圍內(nèi)進(jìn)行,硅片在加熱或冷卻過程中,由于各處受熱或冷卻不均勻而產(chǎn)生溫度梯度,熱膨脹情況各處不同,繼而產(chǎn)生熱應(yīng)力。當(dāng)晶體中的熱應(yīng)力超過其彈性極限時(shí),產(chǎn)生位錯(cuò),位錯(cuò)通過位錯(cuò)源發(fā)生增殖,最終產(chǎn)生滑移線。位錯(cuò)源包括:a、晶體表面的機(jī)械損傷和微裂紋;b、雜質(zhì)或O-Si的原子集團(tuán),旋渦帶;c、摻雜劑的局部聚集等。一般而言,熱應(yīng)力在硅片的邊緣比較大,因此邊緣的滑移位錯(cuò)比較明顯,然后向中心蔓延,嚴(yán)重時(shí)可以出現(xiàn)星形結(jié)構(gòu)[2]如Fig.3-4a,Fig.3-4b為出現(xiàn)星形結(jié)構(gòu)硅片的u-PCD掃描結(jié)果,F(xiàn)ig.3-4c、d為生產(chǎn)過程中出現(xiàn)滑移線的電池片EL圖像。降低溫度梯度減少熱應(yīng)力的產(chǎn)生是降低滑移位錯(cuò)產(chǎn)生的有效方法之一。
Fig.3-4滑移位錯(cuò)
3.3工藝異常
3.3.1擴(kuò)散異常
擴(kuò)散制結(jié)為電池片制造過程中的核心步驟,P-N結(jié)的質(zhì)量直接影響電池片的轉(zhuǎn)換效率,結(jié)淺,電池片短波響應(yīng)好,但會(huì)引起Rs增加;結(jié)過深,死層較明顯,如果擴(kuò)散濃度太大,則引起重?fù)诫s效應(yīng),使電池開路電壓和短路電流均下降,因此太陽(yáng)電池的結(jié)深一般控制在0.3~0.5mm,方塊電阻在50W/□左右。附表2為失效電池片的IV數(shù)據(jù),由Fig.3-5b圖可知電池片左下角黑色區(qū)域的電壓高達(dá)440mV,腐蝕掉正面電極及氮化硅薄膜后掃描方阻(Fig.3-5c)后明顯看出黑色區(qū)域的方阻比其他區(qū)域偏高,導(dǎo)致此區(qū)域與現(xiàn)有燒結(jié)工藝不匹配而沒有形成良好的歐姆接觸產(chǎn)生較大的Rs值。
Fig.3-5擴(kuò)散異常
3.3.2鍍膜異常
鋁背場(chǎng)(BSF)能夠降低電池片背面的少子復(fù)合,提高少子擴(kuò)散長(zhǎng)度;反射長(zhǎng)波段光子,提高長(zhǎng)波段的光譜響應(yīng),最終提升電池片的光電轉(zhuǎn)換效率。由附表3可知此電池片有很低的Voc和Isc,從Fig.3-6a、b可知鋁背場(chǎng)出現(xiàn)異常,腐蝕掉鋁層后發(fā)現(xiàn)(Fig.3-6c)電池片的背面的90%以上的區(qū)域含有氮化硅薄膜,由于電池片采用管式PECVD鍍膜方式,在舟中兩片電池片背靠背放置,由此可知電池片在鍍膜過程中,其中一片脫落或破碎,導(dǎo)致此片電池背面被鍍膜,背面由于氮化硅的存在,使得經(jīng)過絲網(wǎng)印刷后電池片在燒結(jié)過程中無法形成鋁背場(chǎng),且鋁電極也無法與硅形成良好的歐姆接觸,最終形成此類低效電池片。
3.3.3燒結(jié)異常
附表4是電池片的IV數(shù)據(jù),可以看出其Rs非常高,F(xiàn)ig.3-7為電池片的各種測(cè)試結(jié)果,通過掃描corescan(Fig.3-7b)得知缺陷處的電壓高達(dá)150mV,腐蝕后測(cè)試其方塊電阻
(Fig.3-7c)發(fā)現(xiàn)缺陷區(qū)域與正常區(qū)域的方阻值沒有明顯的差異,此電池片的漏電流大約為1.23A,漏電的主要位置從Fig.3-7d可以看出,其原因是電池片此區(qū)域存在異物如Fig.3-7f所示,異物高度大約為3um,因此過高的燒結(jié)溫度及表面異物污染導(dǎo)致較大的反向漏電流造成低效片的產(chǎn)生。
Fig.3-7燒結(jié)異常
EL和PL的區(qū)別上文中已經(jīng)提出,即EL通過電池的電極注入載流子而PL不通過電極注入載流子,因此如果電池片存在嚴(yán)重的燒結(jié)異常(Fig.3-8b)時(shí),通過EL無法檢測(cè)出其他異常,但結(jié)合PL則可以檢測(cè)出除燒結(jié)異常外的其他缺陷(原材料缺陷Fig.3-8a、指紋印、隱裂等),因此在檢測(cè)電池片的過程中,EL結(jié)合PL能夠起到事半功倍的效果。
Fig.3-8PL結(jié)合EL
3.3.4印刷異常
良好的印刷質(zhì)量,能夠減少金屬電極與硅片間的接觸電阻,影響電池的填充因子、短路電流和光電轉(zhuǎn)換效率,斷柵、印刷不均勻都會(huì)導(dǎo)致線性電阻增大,降低轉(zhuǎn)換效率[3]。
Fig.3-9a為存在大量斷柵的電池片的EL圖片,IV數(shù)據(jù)如附表5,可以看出斷柵處顯示為黑色,說明此處沒有電流通過導(dǎo)致響應(yīng)變差,F(xiàn)ig.3-9b是斷柵區(qū)域某根柵線的局部放大圖片。
Fig.3-9斷柵
本文討論了原材料及電池片生產(chǎn)過程中的常見缺陷及異常現(xiàn)象,并利用各種測(cè)試設(shè)備的檢測(cè)結(jié)果簡(jiǎn)單分析了缺陷及異常現(xiàn)象的成因,針對(duì)分析結(jié)果改善工藝條件,以減少產(chǎn)品的不合格率,為公司降低成本減少損失。
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